波長13.9nmの軟X線レーザーパルスを材料表面に照射することにより、ナノメートルサイズの構造体を形成する。
シーズの特徴（成果含む）
- 軟X線レーザー（波長13.9nm、パルス幅7ps）を材料表面に集光照射することによってナノメートルサイズの微細な構造体をマイクロメートルの範囲に形成できます。
金属（Al, Au, Cu）半導体（Si）絶縁体(LiF, SiO2）高子（PMMA）他 - 軟X線レーザーの照射強度を変えることで、構造体の形状を変化させることができます。
- 材料（元素）を変えることで、形成される構造体の形状が変わります（物質依存性）。
○ナノメートルサイズの微細構造を試料表面に直接形成することが可能。
○清浄表面への３次元ナノ加工の可能性。
アウトカム
高輝度軟X線による超微細加工技術への応用
知財等関連情報
1) J. Appl. Phys. 109, 013504 (2011).
2) Appl. Phys. A 110, 179 (2013).
3) Appl. Phys. A 124, 649 (2018).
4) Appl. Phys. Lett. 113, 151901 (2018).
他文献多数
アウトカムに至る段階
応用段階
連携希望企業
未定
担当者
量子ビーム科学部門
関西研(木津)：X線レーザー研究グループ
石野 雅彦