波長13.9nmの軟Ｘ線レーザーパルスによる照射試験により、極端紫外線（EUV）光学素子の耐力を計測
シーズの特徴（成果含む）
- 軟X線レーザー（波長13.9nm、パルス幅7ps）をEUV多層膜光学素子に集光照射することによって損傷構造を生成する。
- 軟X線レーザーの照射強度を変えることで、照射損傷閾値を定量的に導出。
- 損傷構造、損傷閾値の比較を通じて高耐性EUV多層膜の開発を強力に推進。
○ Mo/Si多層膜よりも高耐力のNb/Si多層膜の開発に貢献(NTT-ATとの共同研究）。
○ EUVリソグラフィー露光装置用多層膜（波長13.5nm）と同一仕様の試料で照射損傷試験が可能。
○ 照射損傷形成の物質依存性などの評価が可能。
アウトカム
EUVリソグラフィー用光学素子や材料の損傷計測や耐力評価
知財等関連情報
1) 特許出願中（特願2015-147484）
2) EUV光学素子、X線光源に関する国際会議での発表多数
アウトカムに至る段階
応用段階
連携希望企業
光学機器、分析機器、材料
担当者
量子ビーム科学部門
関西光科学研究所
光量子科学研究部X線レーザー研究グループ
石野 雅彦