従来技術では30m程度の大型装置でしか形成できなかった数100keV〜数MeVのイオンマイクロビームを2m×2m×2m程度の小型装置で形成する。
シーズの特徴(成果含む)

アウトカム
微細加工・分析装置の開発
アウトカムに至る段階
基礎
連携希望企業
微細加工・分析機器分野の企業
担当者
量子科学部門
高崎量子応用研究所放射線高度利用施設部ビーム技術開発課
石井 保行
従来技術では30m程度の大型装置でしか形成できなかった数100keV〜数MeVのイオンマイクロビームを2m×2m×2m程度の小型装置で形成する。
微細加工・分析装置の開発
基礎
微細加工・分析機器分野の企業
量子科学部門
高崎量子応用研究所放射線高度利用施設部ビーム技術開発課
石井 保行