小型イオンマイクロビーム装置

従来技術では30m程度の大型装置でしか形成できなかった数100keV〜数MeVのイオンマイクロビームを2m×2m×2m程度の小型装置で形成する。

シーズの特徴(成果含む)

小型イオンマイクロビーム装置

アウトカム

微細加工・分析装置の開発

知財等関連情報

1) 特許第4665117号
2) 特許第5971631号

アウトカムに至る段階

基礎

連携希望企業

微細加工・分析機器分野の企業

担当者

量子科学部門
高崎量子応用研究所放射線高度利用施設部ビーム技術開発課
石井 保行