ラザフォード後方散乱による薄膜試料の
構造評価

ラザフォード後方散乱法は、数MeVに加速した水素(H), ヘリウム(He)を解析ビームとして試料に入射して、方に乱されるH, He粒子のエネルギーを計測することにより、試料の深さ方向の組成の情報を得る。

シーズの特徴(成果含む)

  • 試料表層の深さ方向(約1μm)の組成分布を非破壊で分析可能です。
  • 炭素基板上の白金微粒子など、担持された重元素の定量分析ができます。
  • 単結晶膜、エピタキシャル膜では、結晶軸に沿ってイオンビームを入射する(チャネリング条件)で測定することにより、深さ方向の結晶性、界面構造の評価ができます。
ラザフォード後方散乱による薄膜試料の構造評価

○試料表層の組成を定量できる分析法であり、触媒材料、
ガスセンサー材料等の機能性材料の開発に役立つ

アウトカム

結晶性評価
薄膜材料の構造評価
品質管理

知財等関連情報

・S. Yamamoto et al., Nucl. Instr. and Meth. in Phys. Res. B 134 (1998) 400-404.
・S. Yamamoto et al., Thin Solid Films 335 (1998) 85-89.
・S. Yamamoto et al., Nucl. Instr. and Meth. in Phys. Res. B 266 (2008) 802–806.

アウトカムに至る段階

応用段階

連携希望企業

金属・半導体薄膜製造メーカー

担当者

量子ビーム科学部門
高崎量子応用研究所先端機能材料研究部
山本 春也