放射光X線を利用した垂直磁化膜の
磁気特性の微視的評価

(ナノレベル局所磁性)
磁気コンプトン散乱や軟X線MCDによる磁化曲線の測定から元素選択的、スピン・軌道選択的磁化曲線を得て、磁気特性の起源を調べる。

シーズの特徴(成果含む)

希土類-遷移金属アモルファス垂直磁化膜について、磁化曲線への寄与をスピン・軌道および元素分離して評価。

放射光X線を利用した垂直磁化膜の磁気特性の微視的評価

アウトカム

物質・材料: 高密度磁気記録媒体(ハードディスク等)の開発

知財等関連情報

1) Applied Physics Express 4 (2011) 083002., 日刊工業新聞等、掲載
2) 磁気コンプトン散乱を用いた垂直磁化膜の磁化過程の研究, 安居院あかね、櫻井浩, 放射光2016年No.2, pp.64-73.

アウトカムに至る段階

基礎

連携希望企業

電子機器メーカー

担当者

量子ビーム科学部門
次世代放射光施設整備開発センター
安居院 あかね