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共用施設・設備(高崎地区)

共用対象施設・設備 高崎研(サイクロトロン)共用対象施設・設備 高崎研(サイクロトロン)

掲載日:2019年5月22日更新
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イオン照射研究施設(TIARA)AVFサイクロトロン募集対象の設備

(2019年11月から2020年3月まで)

No. ビームライン 設備・装置の種類 装置の概要・条件 担当者・連絡先 備考
1 LA-1 RI製造装置

RI製造のための照射を行う装置です。気・液・固体ターゲットのイオンビーム照射ができます。ビーム導入部、照射部、ターゲット回収部並びに照射試料の化学分離等の処理を行うマニプレータ付遮蔽セルから構成されています。
本装置のご利用にあたっては、安全確保の観点からRI関連法令等の専門知識とRIの取扱い等に関する訓練等が必要です。

※現在、装置の更新作業中につき、令和元年度中のご利用に関しては、お問い合わせください。

渡辺 茂樹
RI医療応用研究P
Tel:027-346-9117
 
2 HY1 深度制御種子照射装置 試料台に載せた植物の種子等に対して、垂直上方から60mm×60mmの範囲に均一にイオンビームを照射する装置です。試料台で搬送が可能な試料は、幅60mm、高さ35mm以内です。 長谷 純宏
イオンビーム変異誘発研究P
Tel:027-346-9032
 
3 HX1 微小領域線量分布測定装置 真空中での固体、液体、気体試料への照射が可能です。ホトマルチプライヤー及びマルチチャンネル検出器(時間分解能1ns以下)を用いてオンライン分光測定を行うことができます。 田口 光正
生体適合性材料研究P
Tel:027-346-9386
 
4 HZ1 細胞局部照射装置 サイクロトロンの垂直ビームラインに設置され、マイクロアパーチャーを通して絞り込んだイオンビームを大気中に取り出し、顕微鏡観察下で生物組織や細胞などの特定部位を照射する装置です。コンピュータ制御可能なオートステージシステムの採用により、培養細胞等をひとつひとつ正確に狙って、イオンのヒット数を数えながら複数同時に照射することが可能なシステムになっています。また、底面に飛跡検出用プラスチックCR-39を用いた特製シャーレを使用することにより、照射直後にイオンヒット位置とヒット個数を確認できます。本装置のご利用にあたって、これまでに照射実績のある試料以外の新しい試料への照射を希望される場合には、別途専用の照射容器や照準・観察装置等をご用意いただく必要があります。 舟山 知夫
マイクロビーム生物研究P
Tel:027-346-9107
 
5 HE1&HE2 散乱ビーム照射試験装置 半導体材料及び素子に対するイオン照射効果の解明を目的として整備された装置 です。重イオンビームを20mmx20mm程度の範囲に照射する ことが可能です。 牧野 高紘
半導体照射効果研究P
Tel:027-346-9199
 
6 LD1 リアルタイムビームモニター照射チャンバー 本装置は、100mm×100mmの試料に対し、ビームスキャナーを用いて種々のイオンビームを均一に照射できる真空チェンバーです。試料を4箇所固定できる試料ホルダーを有し、外部指令により真空を破らずに逐次的に照射することができます。また、この試料ホルダーは、照射による温度上昇を抑制するための水冷機能を有しています。 越川 博
先進触媒研究P
Tel:027-346-9128
 

※1:内容は一部変更になる場合がございます。

※2:上記に掲載がない実験装置については、研究企画部(高崎)までお問い合わせください。

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