イオン照射研究施設(TIARA)AVFサイクロトロン募集対象の設備
(令和7年4月から令和8年3月まで)
No. | ビームライン | 設備・装置の種類 | 装置の概要・条件 | 担当者・連絡先 | 備考 |
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1 | LA1 | RI製造装置 |
RI製造のための照射を行う装置です。気・液・固体ターゲットのイオンビーム照射ができます。ビーム導入部、照射部、ターゲット回収部並びに照射試料の化学分離等の処理を行うマニプレータ付遮蔽セルから構成されています。 ※ご利用に関して、お申込み等の前に必ずお問合せください。 |
渡辺 茂樹 RI医療応用P |
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2 | LB2 | 大面積均一ビーム照射装置 |
多重極電磁石を用いてビームの強度分布を10cm角程度に大面積均一化し、照射できます。 |
百合 庸介 |
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3 | HY1 | 深度制御種子照射装置 | 試料台に載せた植物の種子等に対して、垂直上方から60mm×60mmの範囲に均一にイオンビームを照射する装置です。試料台で搬送が可能な試料は、幅60mm、高さ35mm以内です。 | 長谷 純宏 環境耐性遺伝子P |
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4 | HZ1 | 細胞局部照射装置 | サイクロトロンの垂直ビームラインに設置され、マイクロアパーチャーを通して絞り込んだイオンビームを大気中に取り出し、顕微鏡観察下で生物組織や細胞などの特定部位を照射する装置です。コンピュータ制御可能なオートステージシステムの採用により、培養細胞等をひとつひとつ正確に狙って、イオンのヒット数を数えながら複数同時に照射することが可能なシステムになっています。また、底面に飛跡検出用プラスチックCR-39を用いた特製シャーレを使用することにより、照射直後にイオンヒット位置とヒット個数を確認できます。本装置のご利用にあたって、これまでに照射実績のある試料以外の新しい試料への照射を希望される場合には、別途専用の照射容器や照準・観察装置等をご用意いただく必要があります。 | 舟山 知夫 量子バイオ技術応用P |
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5 | LD1 | リアルタイムビームモニター照射チャンバー | 本装置は、100mm×100mmの試料に対し、ビームスキャナーを用いて種々のイオンビームを均一に照射できる真空チェンバーです。試料を4箇所固定できる試料ホルダーを有し、外部指令により真空を破らずに逐次的に照射することができます。また、この試料ホルダーは、照射による温度上昇を抑制するための水冷機能を有しています。 | 越川 博 水素エネルギー変換デバイスP |
※1:内容は一部変更になる場合がございます。
※2:各設備・装置に関すること、上記に掲載がない実験装置については、takasaki-kyoyo@qst.go.jpにお問い合わせください。