実験装置

この超高真空クラスター（Avc製）は、主に基礎材料研究のために使用されます。

主な特徴：

• 5つのUhvチャンバーを通じて移送可能
• 基板加熱可能（最大900 °C）
• 薄膜堆積：Mbe（4元）、マグネトロンスパッタリング（6元）、Uhv-Cvd、電子ビーム堆積（3元）
• リニアシャッターでの成膜が可能
• キャラクタリゼーション：Xps、Rheed、厚さモニター

この超高真空クラスター（エイコー製）は、主にデバイス（例：Mram）開発のために使用されます。

主な特徴：

• 3つのUhvチャンバーを通じて移送可能
• 基板加熱可能（最大900 °C）
• リニアシャッターでの成膜が可能
• マグネトロンスパッタリング（Dc＆Rf、12元）、電子ビーム堆積（5元）
• キャラクタリゼーション：Rheed、厚さモニター

この装置は、主に全光磁化反転測定のために使用されます。

主な特徴：

• フェムト秒レーザー搭載（波長 ~1030 nm、パルス幅 ~250 ps）
• polar-Moke搭載
• 電磁石搭載（最大 5000 Oe）
• 電動ステージ
• 温度範囲：150 K～500 K