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半導体洗浄液用微量金属除去フィルター
現在、半導体の高集積化にともない、その製造に用いる洗浄液に含まれる微量の金属を低減させることが求められており、このために洗浄液への有機成分などの溶出が極めて少ない高性能の金属除去材料の開発が望まれています。このような問題を解決するために、当プロジェクトの保有する「量子ビームグラフト重合技術」と倉敷繊維加工株式会社が開発した「有機溶出成分の少ない基材」とを組み合わせることにより、半導体洗浄液用微量金属除去フィルターを開発することに成功しました。開発したフィルター（クラングラフト🄬）は、従来品に比べて2,000倍高速に微量の金属を除去でき、また、有機溶出成分も分析限界値（0.03 ppb）以下でした。
