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進捗状況(過去のギャラリー:線型加速器)

掲載日:2023年10月23日更新
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次世代放射光施設の放射光設備設置状況(線型加速器)

主加速部である高電場Cバンド加速ユニット(20ユニット)のRFコンデショニングが開始されました。また、同時に線型加速器棟内一部を放射線管理区域に指定し、入退管理も開始されました。線型加速器のRFコンディショニングは4月までの約2ヶ月間実施し、その後蓄積リングのRFコンディショニングに移行する計画です。

ギャラリ トンネル入り口

モニタ 制御盤

(令和5年2月17日)

 

線型加速器トンネル内へのビームダンプ設置作業が完了しました。

ビームダンプ前方 ビームダンプ後方

(令和4年10月31日)

 

線型加速器トンネル終端部へのビームダンプの搬入が完了し、組立作業が開始されました。線型加速器でのビーム調整は蓄積リングに電子ビームを入射せず、トンネル内に設置するビームダンプにビームを廃棄しながら行います。ビームエネルギーを吸収・遮蔽するため中心部(ビームダンプコア)には黒鉛を設置し、外周遮蔽体には重量20t以上の鉄が用いられます。

ビームダンプ

(令和4年10月27日)

 

線型加速器機器の設置作業は受注会社のご協力により無事に進捗し、機器設置の終盤を迎えました。線型加速器においては11月より機器の調整が開始される計画です。(上段左:電子入射部、上段右:加速管下流部、下段:ビームトランスポート部)

線型トンネル上流 線型トンネル下流部

ビームトランスポート部

(令和4年9月28日)

 

線型加速器トンネル部に電子入射部の機器設置が開始されました。入射部では放射光の低エミッタンス実現のため、50 kV電子銃のアノード電極直後に238 MHz RF空胴を設置し、500 keVまで直ちに電子を加速します。続いて、電子ビームを476 MHzサブハーモニックバンチャー(SHB)で速度変調により集群し、Sバンド加速管に入射します。

また、クライストロンギャラリーにおいて、クライストロン用モジュレータ電源内コンデンサを高電圧充電する充電器の設置が開始されました。高電圧発生部では、高周波スイッチングにより最大50kVまでの高電圧を発生し、クライストロン用モジュレータ電源のコンデンサ を充電します。

入射部 充電器

(令和4年8月22日)

 

クライストロンギャラリーにおいても導波管の設置が開始されました(左写真中央部)。右側写真手前のステンレス製の機器はスパッタイオンポンプで、導波管内部のガスを排出し超高真空を保ちます。

導波管 導波管2

(令和4年6月21日)

 

トンネル内に導波管の設置が開始されました。導波管は大電力マイクロ波を供給するため、クライストロンから加速管を接続する無酸素銅製の矩形配管で、クライストロンギャラリー設置分を含めると約300本近い数となります。

トンネル導波管

(令和4年6月14日)

 

クライストロンギャラリーに、Cバンドクライストロンの組立が開始されました。Cバンドクライストロンは、既に設置済みのモジュレータ電源に組込まれ、動作に必要な350kV、310Aのパルス電力をモジュレータ電源より供給します。

クライストロン組立 クライストロン別角度

(令和4年6月9日)

 

トンネル内部において、電磁石設置が開始されました。線型加速器の電磁石は、ビーム収束系として用いる磁気レンズと四極電磁石、電子ビーム軌道を制御する偏向電磁石、及び電子ビーム軌道調整に必要なステアリング電磁石が計109台で構成されます。

線型電磁石 線型電磁石2

(令和4年6月1日)

 

クライストロンギャラリーでは、クライストロン用モジュレータ電源(ステンレス製の大型容器)の設置が開始されました。次世代放射光施設の線型加速器では、電子ビームを加速するために大電力マイクロ波を必要とします。このモジュレータ電源は、クライストロンに350kVの高電圧パルスを印加しマイクロ波を発生させるための電源です。

モジュレータ電源1 モジュレータ電源2

(令和4年6月1日)

 

線型加速器の主加速部である加速管の設置が開始されました。線型加速器は、30MeV電子入射部、入射部直後のビームエネルギー測定のためのシケイン部(BC1)、20台のCバンド高電場加速ユニットで構成されます。Cバンド高電場加速ユニットでは50MWクライストロン、RFパルス圧縮器、Cバンド加速管を使い42MV/mの加速電場を発生させ、加速管内で電子を加速させます。

加速管

(令和4年5月20日)

 

クライストロンギャラリーに高周波パルス圧縮器が設置され、トンネル内部には導波管架台(壁際の棒状の架台)及び電磁石架台(手前の矩形架台)の設置が開始されました。クライストロンにて発生するRF電力は、高周波パルス圧縮器にて約4倍に高めた後、導波管を通じて加速管に供給され電子ビームを加速します。

パルス圧縮機 電磁石架台

(令和4年4月28日)

 

加速管架台(Cバンド)の設置が開始されました。架台は上下ニ分割式で、下部架台である緑色の丸鋼管架台80台をトンネル内部の一部(約100m)に水準±1mm以下の精度で設置します。また、上部架台は加速管(Cバンド・ディスクロード型)の曲りを抑制(±0.1mm以下)するため、あらかじめ加速管を組上けた後に架台に設置します。

加速管架台 架台

(令和4年4月14日)

 

通信機器保管ラック、クライストロン部樹脂床設置完了 トンネル内3次元レーザ計測作業

クライストロンギャラリー 三次元計測作業 

(令和4年2月7日)                (令和4年1月27日)