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現在、ビッグデータや人工知能（AI）、IoTなどの情報技術（IT）の発展を背景に、半導体の基板に電子回路を出来るだけ微細に描く先端リソグラフィの技術革新が強く求められており、今後、ますますEUVリソグラフィの拡大が期待されています。本プロジェクトは微細加工材料（金属ナノ粒子レジスト、ブロック共重合体等）に着目し、量子ビーム（EUV、電子線、X線など）によるレジスト材料に対する放射線物理・化学現象の基礎科学の解明に取り組んでいます。 また、その解明した放射線物理・化学現象に立脚した実用的、かつ高度なレジスト設計指針に基づいた微細加工材料の開発を行っています。我々は、半導体の超小型化・低消費電力化など、先端技術の開発・普及を通して社会に貢献します。
