量子材料超微細加工プロジェクト
圓谷上席研究員と好田先生との共著で発表した論文 “Atomic and electronic structure of ZrO2 film on Si(100) grown by low temperature chemical vapor deposition” [AIP Advances, 16, 055021 (2026)] が、工学的に特に意義のある論文として同雑誌のCoverに選定されました。