現在地
Home > 放射線高度利用施設部 ビーム技術開発課 > 照射技術に関する研究開発

放射線高度利用施設部 ビーム技術開発課

照射技術に関する研究開発

掲載日:2022年6月17日更新
印刷用ページを表示

高速クラスターイオンビーム

新しいイオンビームとして、高エネルギークラスターイオンビームの発生及び応用技術の開発を行っています。

数百MeV級イオンマイクロビーム形成

サイクロトロンで加速された高エネルギー重イオンビームを、4連四重極磁気レンズによって1μm以下に集束するための技術開発を行っています。

数百MeV級マイクロビーム装置

マイクロPIXE分析技術

水素原子のイオン(プロトン)を1μm径に集束して物質に操作しながら照射し、この際に発生する元素に固有なX線を検出することから、元素の二次元画像を取得する技術を開発及び利用実験を行っています。

マイクロPIXE&PIGE分析装置

ビーム強度分布変換技術

多重極電磁石を用いた高品質な均一ビーム照射技術を開発し、材料科学やライフサイエンスに応用しています。