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先進プラズマ研究開発

JT-60高周波(RF)加熱装置 | 高周波加熱装置の役割と種類

掲載日:2018年12月26日更新
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JT-60高周波加熱装置の役割と種類

JT-60 高周波加熱装置は、高周波(電磁波)を使用して、プラズマを加熱し、またプラズマ中に電流を駆動する装置である。
JT-60 では、周波数の相違により次の3種の高周波加熱装置があり、それぞれの役割が異なっている。特に、平成13年度に世界最大級のECRF加熱装置を開発し、高電子温度プラズマの生成、高性能プラズマの安定保持などで、その威力を発揮している。

1)ICRF 加熱装置 (周波数 102 - 130 MHz, 出力 10 MW)

  • 高密度プラズマの中心加熱
  • 高エネルギーイオンの生成

2)LHRF 加熱装置 (周波数 1.7 - 2.2 GHz, 出力 12 MW)

  • 大電流 のプラズマ電流駆動
  • プラズマ電流の半径方向の分布制御

3)ECRF 加熱装置 (周波数 110 GHz, 出力 4 MW )

  • 半径方向の局所領域での電子加熱及び電流駆動
  • 広い密度領域での高効率の電子加熱

JT-60本体室内の高周波加熱装置の設置現状の写真
JT-60 本体室内の高周波加熱装置の設置現状