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先進プラズマ研究開発

JT-60高周波(RF)加熱装置 | 高周波加熱装置の役割と種類 | ICRF加熱装置

掲載日:2018年12月26日更新
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JT-60イオンサイクロトロン周波数帯 (ICRF) 加熱装置

ICRF 加熱装置の高周波系統の概要

ICRF加熱装置の高周波系統の概要を図と写真で説明

ガスパフによる結合度の改善

結合抵抗はガスパフにより増大するグラフ

周辺プラズマの電子サイクロトロン加熱による結合度の改善

周辺ECHより結合抵抗が約20%増大、グラフと図

プラズマ位置のフィードバック制御による結合の安定保持

セパラトリックス一壁距離を意図的に変化させた場合のグラフ

ICRF加熱装置のプラズマ入射電力の実績

ICRF加熱装置のプラズマ入射電力の実績のグラフ